Комбинированные установки с различными технологиями напыления

• Комбинированные установки плазменного и термического напыления
• Комбинированные установки импульсного лазерного и магнетронного напыления
• Комбинированные установки магнетронного и термического напыления

Комбинированные установки плазменного и термического напыления

Установки имеют один держатель мишеней для плазменного распыления и один резистивный испаритель с температурой нагрева ≤ 1700 °C.

Комбинированная установка импульсного лазерного и магнетронного напыления

Установка состоит из трёх камер - загрузочной камеры для образцов, камеры импульсного лазерного напыления с шестью мишенями и камеры магнетронного напыления с одним DC и одним RF магнетронами. Перенос образцов между камерами осуществляется магнитными толкателями.

Комбинированная установка магнетронного и термического напыления

Установка имеет одну камеру напыления с одним DC магнетроном и одним резистивным испарителем с температурой нагрева ≤ 1500 °C.