Установки магнетронного напыления

Метод магнетронного распыления мишеней является более эффективным по сравнению с методом плазменного распыления мишеней за счёт наличия магнитной системы, силовые магнитные линии которой удерживают свободные электроны вблизи мишени, что увеличивает интенсивность бомбардировки мишени ионами и позволяет увеличить скорость формирования плёнки. Он позволяет распылять практически все металлы, сплавы, диэлектрики, полупроводники и другие материалы, включая химические соединения. Одновременное распыление нескольких независимых мишеней позволяет формировать многокомпонентные покрытия, а скорость напыления из каждой мишени можно регулировать независимо.