В установках импульсного лазерного напыления (PLD) исходный материал испаряется при воздействии на него излучения мощного импульсного лазера.
Процесс может происходить в условиях высокого вакуума или в присутствии фонового газа, например, кислорода, который используется при осаждении оксидов.
Установка оснащена манипулятором для смены мишеней. Держатели мишеней и держатель подложки имеют приводы для вращения.
Технические характеристики:
| Количество держателей мишеней |
4 |
| Диаметр мишеней (мм) |
25 - 60 |
| Скорость вращения мишеней (об/мин) |
5 - 50 |
| Диаметр держателя подложки (мм) |
60 |
| Скорость вращения держателя подложки (об/мин) |
5 - 50 |
| Температура держателя подложки (°C) |
≤ 800 |
| Диапазон регулировки расстояния между мишенью и подложкой (мм) |
20 - 80 |