Установки для напыления плёнок

Установки плазменного напыления
Комбинированные установки плазменного и термического напыления
Установки термического напыления
Установки пиролизного напыления
Установки магнетронного напыления
Комбинированные установки магнетронного и термического напыления

Установки плазменного напыления

Метод плазменного распыления мишеней даёт возможность наносить покрытия из тугоплавких и неплавящихся материалов. Он позволяет распылять практически все металлы, сплавы и другие материалы, включая химические соединения. Одновременное распыление нескольких независимых мишеней позволяет формировать многокомпонентные покрытия, а скорость напыления из каждой мишени можно регулировать независимо.

Установки термического напыления

Технология термического напыления покрытий основывается на двух физических процессах - процессе термического испарения исходного материала и процессе конденсации его на подложке. Технология применяется при нанесении покрытий на оптические устройства, металлизации диэлектрических материалов, полупроводниковой промышленности и других отраслях.

Установки термического напыления с резистивными испарителями
Установки электронно-лучевого напыления
Установки импульсного лазерного напыления (PLD)
Установки катодно-дугового напыления (Arc-PVD)

Установки пиролизного напыления

Технология пиролизного напыления покрытий основывается на процессе распыления раствора прекурсора на нагретую поверхность, где происходит термическое разложение молекул прекурсора и реакция с образованием твёрдого покрытия.

Атмосферные установки пиролизного напыления
Вакуумные установки пиролизного напыления
Установки пламенного пиролизного напыления (LF-FSP)

Установки магнетронного напыления

Метод магнетронного распыления мишеней является более эффективным по сравнению с методом плазменного распыления мишеней за счёт наличия магнитной системы, силовые магнитные линии которой удерживают свободные электроны вблизи мишени, что увеличивает интенсивность бомбардировки мишени ионами и позволяет увеличить скорость формирования плёнки. Он позволяет распылять практически все металлы, сплавы, диэлектрики, полупроводники и другие материалы, включая химические соединения. Одновременное распыление нескольких независимых мишеней позволяет формировать многокомпонентные покрытия, а скорость напыления из каждой мишени можно регулировать независимо.

Установки магнетронного напыления на подложки
Установки магнетронного напыления на порошки
Установки магнетронного напыления на оптоволокно

Комбинированные установки с различными технологиями напыления

Комбинированные установки плазменного и термического напыления
Комбинированные установки импульсного лазерного и магнетронного напыления
Комбинированные установки магнетронного и термического напыления