Установки плазменно-химического осаждения с горячим катодом (DCCVD)

Производитель: Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

DCCVD (Direct Current Chemical Vapor Deposition) — это разновидность метода химического осаждения CVD из газовой фазы с использованием постоянного тока и нагретого катода. Метод применяется для получения монокристаллических или поликристаллических алмазных плёнок.

Технические характеристики:

Диаметр медного анода (мм)	60
Диаметр молибденового катода (мм)	80
Диапазон регулировки расстояния между анодом и катодом (мм)	10 - 60
Диапазон напряжения между анодом и катодом (В)	600 - 1200
Рабочий ток (А)	6 - 15
Число каналов подачи газа	6

Кат. №		Модель	Цена (руб.)
		CY-DCCVD