Установки плазменно-химического осаждения (Roll-to-roll PECVD)

Производитель: Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

Установки осаждения из газовой фазы (CVD) применяются для получения плёнок на подложках, покрытий и материалов при осаждении паров прекурсоров на твёрдое вещество посредством химической реакции. Технология PECVD позволяет проводить процесс осаждения при более низкой температуре по сравнению с технологией CVD за счёт использования генератора плазмы для активации химических реакций.
Установки плазменно-химического осаждения (Roll-to-roll PECVD) спроектированы на базе трубчатых печей и используются для выращивания покрытий на металлической фольге при движении фольги сквозь зону нагрева печи. На торцах рабочей трубы установлены барабан подачи и барабан намотки фольги.

Технические характеристики:

Частота ВЧ источника генератора плазмы (МГц)	13,56
Мощность ВЧ источника генератора плазмы (Вт)	1000
Максимальная температура (°C)	1200
Внешний диаметр кварцевой рабочей трубы (мм)	300
Обогреваемая длина(мм)	300+300+300
Диапазон скорости движения фольги (мм/мин)	0 - 400
Число каналов подачи газа	3

Кат. №		Модель	Тмакс. (°C)	Внешний диаметр трубы (мм)	Обогреваемая длина (мм)	Мощность ВЧ генератора (Вт)	Число каналов подачи газа	Цена (руб.)
		CY-OTF-1200X-III-PE300-RR	1200	300	300+300+300	1000	3