Установки плазменно-химического осаждения (PECVD)

Установки осаждения из газовой фазы (CVD) применяются для получения плёнок на подложках, покрытий и материалов при осаждении паров прекурсоров на твёрдое вещество посредством химической реакции. Технология PECVD позволяет проводить процесс осаждения при более низкой температуре по сравнению с технологией CVD за счёт использования генератора плазмы для активации химических реакций.

Камерные установки плазменно-химического осаждения (PECVD)
Трубчатые установки плазменно-химического осаждения (PECVD)
Установки плазменно-химического осаждения (Roll-to-roll PECVD)

Камерные установки плазменно-химического осаждения (PECVD)

Камерные установки плазменно-химического осаждения (PECVD) спроектированы на базе ваккумных камер из нержавеющей сталии и используются для покрытий подложек и образцов большого размера.

Трубчатые установки плазменно-химического осаждения (PECVD)

Трубчатые установки плазменно-химического осаждения (PECVD) спроектированы на базе трубчатых печей и используются для покрытий протяжённых в одном направлении образцов.

Трубчатые вращающиеся установки плазменно-химического осаждения (PECVD)

Трубчатые вращающиеся установки плазменно-химического осаждения (PECVD) спроектированы на базе трубчатых вращающихся печей и используются для покрытий сыпучих образцов, когда требуется перемешивание.

Установки плазменно-химического осаждения (Roll-to-roll PECVD)

Установки плазменно-химического осаждения (Roll-to-roll PECVD) спроектированы на базе трубчатых печей и используются для выращивания покрытий на металлической фольге при движении фольги сквозь зону нагрева печи. На торцах рабочей трубы установлены барабан подачи и барабан намотки фольги.