Метод осаждения парилена в вакууме из газавой фазы (CVD) позволяет формировать тонкий беспористый слой с заданными свойствами, обеспечивающий защиту изделий от влаги, агрессивных сред и электрического пробоя.
Данная технология применяется в медицине, электронике, приборостроении, аэрокосмической и других отраслях промышленности.
Состав установки и технические характеристики:
| Наименование модуля |
Функциональное назначение |
Технические характеристики |
| Сублиматор |
Сублимация -переход первичного продукта из твёрдого состояния в газообразное, минуя жидкую фазу |
Размеры контейнера - Ø69х200 мм, объём 300 мл
Диапазон температуры - комнатная - 200 °C |
| Камера пиролиза |
Разложение связанных молекул продукта на реакционно активные одиночные молекулы (мономеры) |
Диапазон температуры - комнатная - 650 °C |
| Камера осаждения |
Осаждение молекул мономера на поверхность изделий с последующей самопроизвольной полимеризацией |
Размеры камеры - Ø300х400 мм, объём 28 л
Диапазон скорости вращения держателя - 1- 10 об/мин |
| Система охлаждения |
Обеспечивает улавливание остаточных паров мономера |
Диапазон температуры - комнатная - -70 °C |